描述

1.烘胶台/烤胶机产品简介

WH-HP-01烘胶台是苏州汶颢微流控技术股份有限公司独立开发,具有独立知识产权,可以用于光刻工艺中的前烘、中烘和后烘。该设备采用PID控温系统自动测温控温,并具有两段式自动升温、烘胶速度快、均匀、控温精度高等特点,可长时间持续稳定工作。

WH-HP-01是一款紧凑且易于使用的光刻热板。它用于光刻工艺的预烘烤,后烘烤和硬烘烤。该产品具有较高的烘烤速度,均匀性,较高的温度控制精度和高度可重复的实验结果。烘烤控制设计用于预烘烤,后烘烤和硬烘烤,以进行光蚀刻过程。

WH-HP-01热板与KW-4A旋涂机或WH-SC-01旋涂机一起使用,是在硅片或其他基板上制造金属氧化物薄膜、聚合物涂层和金属有机薄膜的理想工具。与传统烤箱相比,使用加热板固化薄膜将减少烘烤时间,提高可重复性,并获得更均匀和更好的薄膜质量。这是因为WH-HP-01在整个基材上具有均匀的温度曲线,并为薄膜和涂层提供均匀的加热。因为薄膜/涂层是从下往上加热的,所以可以避免皮肤效应。

 

烤胶机(英文名:Hot Plate)又名烘胶台,烤胶台,加热平台,烤胶板,热台,热板等用途可在光刻工艺中的涂胶后的软烘,暴光后烘,显影后的坚膜,磨片粘片熔腊等。产品采用整体铸造,加热板作为加热体,增强了设备的安全性。采用单片机作为控制核心部件,有极高精准的控温精度,紧凑美观。该设备对一些温度敏感材料(如晶体、半导体、陶瓷等)进行加热和装卡尤为适用。该设备结构简单,操作简便,安全可靠,是从事半导体热处理、材料研究生产、温度干燥试验等必不可少的工具。

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2.烘胶台/烤胶机技术参数

 

汶颢实验室烘胶台/烤胶机外观图一汶颢实验室烘胶台/烤胶机侧面图 正常温度:室温-300℃
极限温度:350℃
持续烘胶时间:15min以内为宜
控温精度:±1℃
温度均匀性:<±3%
烘胶板规格:φ200
参数设定:触摸屏设置参数
控温形式:PID控温系统
电源输入:AC220V±10V,50HZ
功率:1000W
重量:16kg
外形尺寸:365*280*156mm

3.烘胶台/烤胶机特征图解

汶颢烘胶台/烤胶机特征图解11.jpg

①观察窗 ②盖板 ③烘胶板 ④触摸屏 ⑤电源插孔 ⑥通风孔

烘胶台温度测试数据表:

设定温度(℃) 1 2 3
显示温度(℃) 实际温度(℃) 温度均一性% 显示温度(℃) 实际温度(℃) 温度均一性% 显示温度(℃) 实际温度(℃) 温度均一性%
中心 偏中心 边缘 中心 偏中心 边缘 中心 偏中心 边缘
65 64.7~65.9 65 66 67 2.99% 64.4~65.5 68 68 69 4.35% 64.8~65.9 68 67 69 2.90%
95 94.7~96 95 96 97 2.06% 94.3~96.1 96 96 98 2.04% 94.6~96.3 96 96 96 0.00%
120 119.7~121 120 121 123 2.44% 119.6~121.4 121 121 121 0.00% 119.4~121.8 120 119 117 2.50%
150 149.1~151.5 149 151 152 1.97% 149.3~151.5 150 150 152 1.32% 149.2~151.7 150 148 148 1.33%
200 198.9~201.1 198 201 202 1.98% 199.1~201.2 196 198 200 2.00% 199.3~201.9 201 196 197 1.99%
250 248.2~250.9 251 254 255 1.57% 248.8~250.8 251 252 254 1.18% 248.5~251.5 253 249 250 2.80%
280 278.6~280.6 282 284 287 1.74% 278.2~280.9 282 285 286 1.40% 278.4~281 287 281 283 1.39%
测试结论 控温精度<±2℃,温度准确性(偏中心点)范围在±5℃,温度均一性<5%。

装箱清单:

名称 单位 数量
烘胶台机体 1
电源线 1
使用手册 1
质检报告 1
合格证 1
保修卡 1


烘胶台视频指导

注:清点包装箱内的附件和印刷资料,箱内的附件和资料请按照装箱清单对照检查。

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