描述

1、设备主要技术指标:

(1) 曝光面积: 200mm×200mm;

(2)分辨力:?3mm;

(3)对准精度:±2mm;

(4)掩模尺寸:5英寸、7英寸、9英寸;

(5)样片尺寸:4英寸、6英寸、8英寸;

(6)wafer chuck表面:防止光反射涂层;

(7)掩模样片整体运动范围:X:10mm;Y:10mm;

(8)掩模相对于样片运动行程:X: ±5mm;   Y: ±5mm;  q:  ±6°;

(9)汞灯功率:1000W(直流);

(10)曝光能量密度:≥ 15mW/cm;

(11)光源能量控制:光源恒功率(每日测量光强,微调recipe(参考356nm波长) ;

(12)曝光峰值波长:365nm;

(13)曝光方式:定时(倒计时方式0.1s—9999.9s);

(14)光刻版夹具兼容性

(15)具有盲曝粗对准功能。

2.技术主要组成部分

(1)曝光头系统包括:

¨ 冷光椭球镜;

¨ 德国OSRAM1000W直流高压汞灯;

¨ XYZ汞灯调节台;

¨ 光学系统(冷光紫外平面反射镜、快门、蝇眼透镜组、冷光紫外抛物面反射镜);

¨ 冷却风扇。

(2)对准工件台系统包括:

¨ 掩模样片相对运动台;

¨(XY),转动台;

¨ 样片调平机构;

¨ 样片调焦机构;

¨ 承片台3个: 4英寸、6英寸、8英寸;

¨ 掩模夹3个:5英寸、7英寸、9英寸。

(3)CCD对准显微镜系统包括:

¨4倍显微镜2只;

¨照明光源2套;

¨ CCD相机2只;

¨22英寸液晶显示器。

(5)电控系统:

¨ 汞灯触发电源(1000W);

¨ 单片机控制系统;

¨ 控制柜桌。

(6)气动系统系统包括:

¨ 气缸、电磁阀、减压阀、气动开关,电磁阀驱动,气动仪表等

(7)其他配置与附件

¨真空泵一台;

¨空压机一台;

¨ 配套气管10m;

3.相关技术资料

¨设备使用及维护说明书

¨出厂检验合格证。

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